Tantalumterutamanya wujud dalam bijih tantalite dan bersimbiotik dengan niobium. Tantalum mempunyai kekerasan dan kemuluran sederhana, dan boleh ditarik ke dalam filamen untuk membuat kerajang nipis. Pekali pengembangan habanya sangat kecil.
1. Sifat kimia tantalum:
Tantalum juga mempunyai sifat kimia yang sangat baik dan mempunyai rintangan kakisan yang sangat tinggi. Ia tidak bertindak balas kepada asid hidroklorik, asid nitrik pekat dan "aqua regia" tidak kira dalam keadaan sejuk atau panas. Walau bagaimanapun, tantalum boleh terhakis dalam asid sulfurik pekat panas. Di bawah 150 darjah , tantalum tidak akan terhakis oleh asid sulfurik pekat. Ia hanya akan bertindak balas pada suhu yang lebih tinggi daripada ini. Dalam asid sulfurik pekat pada 175 darjah selama satu tahun, ketebalan kakisan ialah 0.0004 mm. Apabila tantalum direndam dalam asid sulfurik pada 200 darjah selama satu tahun, lapisan permukaan hanya rosak sebanyak 0.006 mm. Pada 250 darjah, kadar kakisan meningkat, dengan ketebalan 0.116 mm setahun. Pada 300 darjah, kadar kakisan adalah lebih cepat. Selepas satu tahun rendaman, permukaan telah terhakis sebanyak 1.368 mm. Kadar kakisan dalam asid sulfurik wasap (mengandungi 15% SO3) adalah lebih serius berbanding dengan asid sulfurik pekat. Selepas direndam dalam larutan ini pada suhu 130 darjah selama satu tahun, ketebalan permukaan yang terhakis ialah 15.6 mm. Tantalum juga akan terhakis oleh asid fosforik pada suhu tinggi, tetapi tindak balas ini biasanya berlaku melebihi 150 darjah. Selepas merendam dalam 85% asid fosforik pada 250 darjah selama satu tahun, permukaan akan terhakis sebanyak 20 mm. Selain itu, tantalum akan terhakis oleh asid hidrofluorik dan asid nitrik. Ia boleh cepat larut dalam asid campuran dan juga boleh larut dalam asid hidrofluorik. Tetapi tantalum lebih takut kepada alkali yang kuat. Dalam larutan soda kaustik dengan kepekatan 110 darjah dan kepekatan 40%, tantalum akan cepat dibubarkan. Dalam larutan kalium hidroksida dengan kepekatan yang sama, ia akan cepat larut pada 100 darjah. Kecuali situasi di atas, garam tak organik am umumnya tidak boleh menghakis tantalum di bawah 150 darjah. Eksperimen telah menunjukkan bahawa tantalum tidak mempunyai kesan ke atas larutan alkali, gas klorin, air bromin, asid sulfurik cair dan banyak bahan kimia lain pada suhu normal. Ia hanya bertindak balas di bawah tindakan asid hidrofluorik dan asid sulfurik pekat panas. Situasi sedemikian agak jarang berlaku dalam logam.
Walau bagaimanapun, pada suhu tinggi, filem oksida pada permukaan tantalum dimusnahkan, jadi ia boleh bertindak balas dengan pelbagai bahan. Tantalum boleh bertindak balas dengan fluorin pada suhu bilik. Pada 150 darjah, tantalum adalah lengai kepada klorin, bromin dan iodin. Pada 250 darjah, tantalum masih mempunyai ketahanan kakisan terhadap klorin kering. Apabila dipanaskan hingga 400 darjah dalam klorin yang mengandungi wap air, ia masih boleh kekal cerah. Pada 500 darjah Ia mula berkarat. Tantalum bertindak balas dengan bromin melebihi 300 darjah, dan lengai kepada wap iodin sehingga suhu mencapai haba merah. Hidrogen klorida bertindak balas dengan tantalum pada 410 darjah untuk menghasilkan pentaklorida, manakala hidrogen bromida bertindak balas dengan tantalum pada 375 darjah. Apabila dipanaskan hingga 200 darjah atau lebih rendah, S boleh berinteraksi dengan Ta, dan karbon serta hidrokarbon boleh berinteraksi dengan tantalum pada 800-1100 darjah.
2. Penggunaan Tantalum:
Tantalum sangat tahan terhadap kakisan. Ini menjadikan tantalum digunakan secara meluas dalam industri kimia, seperti dalam pembuatan bekas tekanan tahan kakisan, reaktor, saluran paip dan peralatan lain. Oleh kerana kestabilan dan biokompatibilitinya, tantalum juga digunakan dalam pembuatan alat perubatan seperti sendi tiruan, implan pergigian dan perentak jantung. Selain itu, aplikasi tantalum dalam industri elektronik juga amat penting. Kekonduksian elektrik yang baik dan kestabilan terma menjadikan tantalum sesuai untuk mengeluarkan komponen elektronik mewah, seperti kapasitor, litar bersepadu dan peralatan semikonduktor.
Dalam industri aeroangkasa, kestabilan suhu tinggi tantalum dan rintangan kakisan menjadikannya bahan yang ideal untuk pembuatan pesawat dan komponen roket. Aplikasinya termasuk komponen suhu tinggi seperti muncung dan bilah turbin dalam enjin pesawat. Tantalum juga mempunyai sifat refraktori dan aktiviti kimia yang rendah, menjadikannya sesuai sebagai komponen kecil aloi. Ia juga boleh menggantikan beberapa logam berharga, seperti platinum, dalam pembuatan peralatan eksperimen.
Tantalumjuga mempunyai aplikasi penting dalam banyak bidang berteknologi tinggi seperti industri tenaga, komunikasi dan teknologi superkonduktor, seperti bahan anod yang digunakan dalam pembuatan bateri litium-ion, litar frekuensi tinggi dan antena. Secara keseluruhan, tantalum adalah bahan serba boleh yang aplikasinya dalam pelbagai bidang mendapat manfaat daripada sifat kimia dan fizikalnya yang unik.
